製品情報
製品や技術の中核となる半導体・液晶・太陽電池セル等の製造メーカーのニーズに応える半導体産業用装置・機器、真空機器を提供しています。
ドライ真空ポンプ
Dry Vacuum Pump
ドライ真空ポンプは、すべての主要産業部門において最高のパフォーマンスを発揮するように設計されています。
軽負荷用途から腐食性プロセス、反応副生成物が発生する高負荷プロセスまでの幅広いアプリケーションを対象とし、用途に応じたドライ真空ポンプの型式をラインナップしております。
排ガス処理装置
Gas Abatement System
排ガス処理装置は、半導体・液晶パネル・太陽電池・LED等の製造で使用される様々なガスを、用途に応じて燃焼式・吸着式・触媒式といった方法にて処理します。
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CMP装置
Chemical Mechainical Polisher System
ウェーハ表面を化学的機械的に研磨するクリーンルーム設置型のCMP装置です。
市場で証明された高い信頼性と優れたプロセス性能を有する本製品は、各ユーザの仕様に対応するようフレキシブルな装置構成が可能です。
べベル研磨装置
Bevel Polishing System
半導体ウェーハの端面であるべベル部分やその周辺のエッジ部分、また、ウェーハ裏面部分を研磨することによって欠陥を除去する装置です。
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